• Відкриті торги з публікацією англійською мовою
  • Безлотова
  • КЕП

Електронні сканувальні мікроскопи – за кодом CPV за ДК 021:2015 38511100-1

Торги відмінено

4 600 000.00 UAH з ПДВ
мін. крок: 0.4% або 18 400.00 UAH
Період уточнення: 30.07.2018 19:54 - 19.08.2018 21:00
Відповідь надана

Запитання що технічних вимог до предмета закупівлі

Номер: 9a0174a630ad4a47875d7e97373466ba
Дата опублікування: 17.08.2018 20:55
Опис: Запит через сайт розміщення тендера Просимо Замовника, розглянути можливість розширення технічних вимог до закупівлі та до обладнання (скануючого електронного мікроскопа), задля збільшення можливого кола учасників, а також враховуючи, що зазначені Замовником вимоги до технічних характеристик обладнання чітко орієнтовані на характеристики, притаманні конструкції і дизайну товару лише певного виробника - Tescan (Чеська Республіка), модель мікроскопа - VEGA 3 LMH). Крім цього хочемо звернути увагу, що ряд технічних вимог тендерної документації Замовника є дискримінаційними і таким чином умисно обмежують коло потенційних учасників тендерної процедури закупівлі із пропозиціями аналогічного за функціональністю обладнання через орієнтованість на дизайн одного певного виробника, а не на кінцевий результат можливості використання обладнання для вирішення поставлених задач. Запропоновані зміни стосуються наступних пунктів технічних вимог: Запитання 1: Просимо змінити вимогу до закупівлі, що стосується найменування та комплектності продукції, а саме, : вимогу “Активна віброізоляція колони мікроскопа” змінити на: “Віброізоляція колони мікроскопа”. Дане прохання зумовлене тим, що вимога щодо вибору того чи іншого способу віброізоляції колони визначається виробником обладнання з огляду на стабільність отримуваних зображень. При надійній та стабільній конструкції колони електронного мікроскопа достатньо звичайної пасивної віброізоляції колони. Технічні вимоги для закупівлі Запитання 2: Просимо змінити вимогу п.1 технічного завдання, що стосується Електронно-оптичної системи: “- чотирьохлінзовий пристрій електронної оптики: додаткова проміжна магнітна лінза, крім традиційних двох конденсорних і однієї об'єктивної лінзи, для отримання додаткових режимів сканування зразка“, оскільки основна характеристика приладу (роздільна здатність) досягається в сучасних електронних скануючих мікроскопах також при використанні іншої (трьохлінзової) конструкції колони. При цьому дослідження зразків можливе при підтриманні широкого поля зору (від дуже низького збільшення до великого збільшення) і при різних робочих відстанях без необхідності додаткової оптимізації апертури пучка. Крім цього, хочемо зазначити, що встановлена Замовником у Технічних вимогах для закупівлі чотирьохлінзова конструкція електронно-оптичної системи є дискримінаційною характеристикою, властивою єдиному на світовому ринку електронному мікроскопу моделі VEGA 3 LMH виробництва компанії Tescan (Чеська Республіка). Просимо замінити вимоги технічного завдання на: “- чотирьох- або трьохлінзовий пристрій електронної оптики“. Запитання 3: Просимо виключити вимогу п.1 технічного завдання, що стосується Електронно-оптичної системи: “- конструкція стигматора - октупольний електромагнітний. Функція запам'ятовування параметрів стігматора для роботи при різних збільшеннях і прискорюючих напругах” Дане прохання зумовлене тим, що встановлена вимога щодо конструкції стигматора є дискримінаційною характеристикою, властивою єдиному електронному мікроскопу моделі VEGA 3 LMH виробництва компанії Tescan (Чеська Республіка). Запитання 4: Просимо змінити вимоги п.1 технічного завдання, підпункту Електронно-оптична система: “- центрування колони електромагнітною системою, виключаючи механічне центрування (блок зміни об'єктних діафрагм повинен бути відсутнім)” та замінити вимоги технічного завдання на: “- центрування колони електромагнітною системою, виключаючи механічне центрування (блок зміни об'єктних діафрагм повинен бути відсутнім), або відсутність необхідності центрування, якщо конструктивні особливості електронного мікроскопа не вимагають виконувати центрування колони”. Дане прохання зумовлено тим, що у сучасних електронних скануючих мікроскопах у залежності від конструктивних особливостей центрування колони може бути необхідним або взагалі не виконуватися через відсутність потреби у такій операції через високу прецизійність виконання та жорсткість конструкції. Більше того, відсутність у потребі центрування колони зменшує та унеможливлює ризик виходу обладнання (зокрема системи центрування) з ладу. Запитання 5: Просимо змінити вимоги пункту що стосуються Збільшення, а саме: «Плавне регулювання збільшення в діапазоні від 2 × до 1 000 000 × без спотворень і викривлень поля зору у всьому діапазоні» на: «Плавне регулювання збільшення в діапазоні від 6 × до 1 000 000 × без спотворень і викривлень поля зору у всьому діапазоні», оскільки призначенням скануючого електронного мікроскопа є вивчення зразків при великих збільшення (від 1000х та більше) з великою роздільною здатністю та глибиною різкості, а для збільшень у діапазоні 2x-1000x використовують оптичні лупи або оптичні мікроскопи. Більш того, дана характеристика, як вже зазначено, хоча не є визначальною для дослідження матеріалів, але чітко прописана під одного виробника, а саме електроний скануючий мікроскоп Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan, тобто є дискримінаційною. Запитання 6: Просимо змінити вимоги пункту технічних вимог до обладнання, що стосуються Столика і камери зразків, а саме: “Діапазон нахилу не менш ніж від -80о до +80о”, на «Діапазон нахилу не менш ніж від 0о до +90о». Це пов’язано з суттю дослідження матеріалу, а саме отриманням зображення з боку зразка і саме з нахилом 90о можна отримати максимальну інформацію із поперечної грані (торця) зразка, а в свою чергу нахил 80о не дозволяє отримати повної картини із поперечної грані зразка з огляду на зменшення розсіювання електронів у тілесний кут. Також додатково слід зазначити, що нахил в іншу сторону значення (-80о) взагалі є абсолютно не необхідною характеристикою, оскільки при обертанні столика зі зразком на 180о у площині XY можна отримати максимум інформації з іншої сторони зразка. Більш того, дана характеристика, як вже зазначено, хоча не є визначальною для дослідження матеріалів, але чітко прописана під одного виробника, а саме компанії Tescan, яка є виробником електронного скануючого мікроскопу Vega 3 LMH, тобто є дискримінаційною. Запитання 7: Просимо внести заміни до вимоги пункту 1, підпункті Столик і камера зразків, а саме: «столик зразків мікроскопа із вмонтованими, не менше двох, циліндрів Фарадея для вимірювання струму пучка», змінивши його на: «столик зразків мікроскопа із вмонтованими циліндром Фарадея». Наявність двох циліндрів Фарадея було обумовлена тим, що при ручному керуванні столиком користувач міг швидко перемістити столик до ближчого циліндру та провести виміри струму пучка електронів. Сучасні скануючи електроні мікроскопи оснащені спеціальним програмним забезпечення для керування столиками зразків, яке дозволяє запрограмувати положення циліндру і провести виміри току в лічені секунди. Необхідність використання двох циліндрів абсолютно нічим не зумовлена, з огляду на тип зразків, указаних для дослідження. Зазначена опція (2 циліндри Фарадея) необхідна лише як резервний, але не необхідний засіб при дослідженні великих напівпровідникових масок у випадку неякісного виконання одного з циліндрів та виходу його з ладу. В свою чергу знову хочемо зазначити, що всі виробники електронних мікроскопів використовують лише один циліндр Фарадея, окрім моделей електронних скануючих мікроскопів Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan. Отже, вимога про наявність 2х циліндрів Фарадея є дискримінаційною. Запитання 8: Просимо внести заміни до технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосується Столика і камери зразків, а саме: “максимальне поле огляду не менше 24 мм при робочій відстані 30 мм” на: «Максимальне поле огляду (при найбільшій робочій відстані) не менше 18 мм» Дана зміна значно розширить можливе коло учасників, що сприятиме чесній і вільній конкуренції, та як результат, економії бюджетних коштів. В разі неможливості внесення запропонованих змін просимо надати обґрунтування. В свою чергу знову хочемо зазначити, що вказаній вимозі відповідає лише модель електронного скануючого мікроскопа Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan. Отже, дана вимога є дискримінаційною. Запитання 9: Просимо внести заміни до технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосується програмного забезпечення, а саме: “Інтерфейс українською або російською мовами” на: “Інтерфейс англійською, українською або російською мовами. Обов’язкова наявність інструкції користувача, викладеної українською мовою”. Враховуючи, що закупівля здійснюється як міжнародні торги, запропонована зміна значно розширить можливе коло учасників, що сприятиме чесній і вільній конкуренції, та як результат, економії бюджетних коштів. В разі неможливості внесення запропонованих змін просимо надати обґрунтування. Запитання 10: Просимо внести заміни до технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосується системи сканування, а саме: “Система сканування повинна дозволяти отримувати зображення з «телевізійною» розгорткою зі швидкістю розгортки не менше, ніж 20 нс/піксель без пропуску пікселів” на: “Система сканування повинна дозволяти отримувати зображення з «телевізійною» розгорткою зі швидкістю розгортки у діапазоні не менше, ніж від 50 нс/піксель до 25 мс/піксель без пропуску пікселів”, Дана запропонована зміна зумовлена тим, що аналіз електронно-мікроскопічних зображень вимагає максимального накопичення та усереднення сигналу, тому висока швидкість розгортки не впливає на кінцеву якість аналітичного зображення оскільки на якість зображення головним чином впливає якість роботи детектора розсіяних та обернено-розсіяних електронів. Дана зміна значно розширить можливе коло учасників, що сприятиме чесній і вільній конкуренції, та як результат, економії бюджетних коштів. В разі неможливості внесення запропонованих змін просимо надати обґрунтування. В свою чергу знову хочемо зазначити, що встановленій у технічному завданні вимозі відповідає лише модель електронного скануючого мікроскопа Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan. Отже, дана вимога є дискримінаційною. Запитання 11. Просимо внести заміни до технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосується системи сканування, а саме: “Максимальний розмір одержуваного зображення не менше 16000x16000 пікселів, повинна бути реалізована можливість зміни роздільної здатності «живого» зображення і зображення, що зберігається” на: “Максимальний розмір одержуваного зображення не менше 6144x4096 пікселів, повинна бути реалізована можливість зміни роздільної здатності «живого» зображення і зображення, що зберігається”. Це зумовлено тим, що при роздільній здатності зображення 16000х16000 пікселів зображення такого розміру є абсолютно не оброблюваним та неможливим для огляду без компресії (що призводить до втрати якості зображення та його інформативності). Саме тому всі виробники електронних мікроскопів уникають створення зображень із встановленими у технічному завданні характеристиками. Дана зміна значно розширить можливе коло учасників, що сприятиме чесній і вільній конкуренції, та як результат, економії бюджетних коштів. В разі неможливості внесення запропонованих змін просимо надати обґрунтування. В свою чергу знову хочемо зазначити, що встановленій у технічному завданні вимозі відповідає лише модель електронного скануючого мікроскопа Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan. Отже, дана вимога є дискримінаційною. Запитання 12. Просимо виключити із технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосується системи сканування, пункт: “Повинна бути можливість отримання анагліфних стерео-зображень у реальному часі за допомогою системи сканування (без нахилу зразка)”, оскільки зазначена вимога не є аналітичним або науковим інструментом дослідження матеріалів, а лише маркетинговим інструментом. Дана зміна значно розширить можливе коло учасників, що сприятиме чесній і вільній конкуренції, та як результат, економії бюджетних коштів. В разі неможливості внесення запропонованих змін просимо надати обґрунтування. В свою чергу знову хочемо зазначити, що встановленій у технічному завданні вимозі відповідає лише модель електронного скануючого мікроскопа Vega 3 LMH виробництва компанії Tescan. Отже, дана вимога є дискримінаційною. Запитання 13. Просимо виключити із технічних вимог до обладнання у підпункті, що стосуєтюся додаткових вимог, пункт: “- інтегрована активна електрична підвіска для нейтралізації впливу зовнішніх вібрацій на колону і камеру зразків”. Перед усім хочемо зазначити, що конструктивно існує три способи реалізації антивібраційних підвісок скануючих електронних мікроскопів: пасивні, активні повітряні (газові) та електромагнітні. Електричних активних підвісок не існує. Додатково хочемо звернути увагу, що вимога щодо вибору того чи іншого способу віброізоляції колони визначається виробником обладнання з огляду на стабільність отримуваних зображень. При надійній та стабільній конструкції колони електронного мікроскопа достатньо звичайної пасивної віброізоляції колони.
Відповідь: Відповідь на 1 питання. Наша організація планує використовувати скануючий електронний мікроскоп для дослідження нанорозмірних об’єктів, загально відомо, що вібрації міжповерхових перекриттів, на яких встановлюється прецизійне обладнання, мають, як правило, широкий спектр частот. Максимальні коливання перекриттів в лабораторіях дослідних корпусів відбуваються на низьких частотах. Гідравлічні і пневматичні демпфери працюють в більшості випадків в пасивному режимі і не забезпечують необхідної якості віброізоляції (точності та швидкодії стабілізації об'єкта, що ізолюється, ступеня зниження вібрацій). Це обумовлено наявністю сил тертя в гідро- і пневмоциліндрах і керуючих елементах (золотникових і мембранних регуляторах), стискуваністю робочого середовища, крім того, в'язко-пружні системи пасивної віброізоляції ефективно поглинають вібрації, як правило, при середніх частотах. У низькочастотної області такі системи малоефективні, тому що при наявності збуджуючих впливів виникають інтенсивні резонансні коливання, що є головним і важко усуваним недоліком пасивної в'язко-пружної підвіски. Таким чином, наявність системи активної віброізоляції в низькочастотному діапазоні для прецизійного обладнання є надзвичайно актуальною, особливо при роботі з великими збільшеннями та у режимі проведення вимірювання розмірів зерен, включень тощо. Відповідь на 2 питання. Використання проміжної лінзи викликано необхідністю проведення досліджень зразків у додаткових режимах сканування, наприклад: при підтриманні широкого поля зору при різних робочих відстанях, що в свою чергу вимагає оптимізації апертури пучка. Саме 4-и лінзова система об'єктиву дозволяє спеціалістам швидко змінювати параметри пучка (наприклад, струм і розмір області дослідження) без будь-яких механічних переміщень апертури. Це також дозволяє поступово йти від дуже низького збільшення (огляд для навігації) до великого збільшення (конкретна область, яка є цікавою для дослідження). Відповідно до цього дана вимога зумовлена тим, що при використанні цієї системи буде зведене до мінімуму людський фактор при зміні апертур. Також нами було проведено аналіз ринку та попередніх закупівель у системі Prozorro, що показало відсутність дискримінації у даній вимозі. Як приклад можна розглянути закупівлю аналогічного мікроскопа ДП "Київський науково-дослідний інститут судових експертиз міністерства юстиції України" у 2017 році: https://prozorro.gov.ua/tender/UA-2017-08-29-000417-a Відповідь на 3 питання. Восьмиполюсна конструкція стигматора є загальноприйнятим стандартом для коригування астигматизму зображення, що визначений як найоптимальніший. Відповідно до проведеного дослідження, на світовому ринку електронних мікроскопів представлені виробники, що використовують таку конструкцію. Відповідь на 4 питання. Спираючись на доступну інформацію та власний досвід хочемо повідомити про неможливість реалізації конструкції СЕМ без наявності можливості центрування колони. Про відсутність необхідності центрування колони можна казати лише у випадку попереднього центрування всієї системи на заводі (всі виробники проводять попередню підготовку СЕМ до роботи), але будь-яке наступне втручання у колону (зміна катоду, встановлення апертур тощо) призводить до відхилення електронного променю, тобто до порушення роботи мікроскопа і необхідності проведення сервісних робіт з викликом інженера виробника. А це в свою чергу приведе до здорожчання обслуговування приладу в майбутньому. Відповідь на 5 питання. Особливість аналізу зразків у матеріалознавстві вимагає не лише їх детального аналізу при максимальному збільшенні, але і попереднього огляду всього зразка при незначних збільшеннях (чим менше, тим краще) для визначення зон наступного детального мікроскопічного аналізу, що у свою чергу зумовлено великим розміром зразків, подекуди до 100 мм та більше. Мале збільшення особливо зручне при дослідженні зразків нестійких на повітрі. Оскільки для дослідження зразків в СЕМ створюється вакуум, ми можемо провести повний огляд і вивчення реакційноздатних зразків в одному приладі. Відповідь на 6 питання. Аналіз зразків вимагає їх дослідження з усіх ракурсів та під різними кутами, тому можливість зміни кута нахилу у різні сторони критично необхідна без зміни положення зразка на столику (обертання, переміщення) для збереження точного місця аналізу та отримання максимальної інформації мікроскопічного аналізу. Крім того, у разі дослідження довгомірних зразків можливість обертання зразка для дослідження протилежної грані може бути відсутня. Відповідь на 7 питання. Відповідно до широкого спектру завдань сучасного матеріалознавства, в дану область входить також і дослідження напівпровідникових пластин, покриттів на них, а також вивчення структури матеріалів, що є чутливими до струму електронного зонду. Крім того, при дослідженні великих зразків неправильної форми один циліндр Фарадея може бути закритий зразком. Відповідно до цього, вимірювання струму на двох циліндрах Фарадея є необхідним. Відповідь на 8 питання. Наведене у технічних вимогах максимальне поле огляду необхідне для полегшення орієнтування оператора по поверхні великого зразка у пошуках зони інтересу, а також, найголовніше, для проведення вимірювань зразків з високою точністю при якомога малих збільшеннях без застосування режимів зйомки, що спотворюють поле зору. Відповідь на 9 питання. Хочемо зазначити, що в тендерній документації зазначені вимоги до наявності: “Інтерфейс українською або англійською мовами” та “Наявність інструкції користувача українською або англійською мовами”, тому змінювати дані пункти та об’єднувати його в одну вимогу не є доцільним. Відповідь на 10 питання. Оскільки одним з завдань нашої установи є дослідження матеріалів, що руйнуються або змінюють свої властивості під впливом електронного пучка, для експресного аналізу таких зразків необхідно максимально зменшити час експозиції поверхні у режимі пошуку області, що представляє інтерес. Відповідь на 11 питання. Відповідно до алгоритму обробки та збереження зображень майже у всіх сучасних форматах (таких як TIFF, JPEG та BMP) відбувається з втратою якості та, відповідно, інформативності отриманих зображень за винятком деяких форматів. Отже отримання «більшого» за кількістю пікселів зображення дозволяє отримати більше інформації з однієї і тої самої площі у порівнянні з «меншим» знімком у випадку використання форматів з більш швидкою обробкою. З іншого боку, аналіз наноструктурних об’єктів вимагає максимально можливого збільшення, а можливість збереження у форматі 16000х16000 пікселів дозволяє оператору отримати додаткове цифрове збільшення. Відповідь на 12 питання. Дана функція є необхідною для дослідження топографії зразків при аналізі структури його поверхні. Стерео-зйомка у реальному часі дозволяє зробити висновок про характер включень на поверхні зразка, наприклад про закриті або відкриті пори без нахилу столика з зразком. Відповідь на 13 питання. Відповідно до Вашого зауваження інформуємо, що у тендерній документації вказана вимога: “- інтегрована активна п’єзоелектрична підвіска для нейтралізації впливу зовнішніх вібрацій на колону і камеру зразків”, тобто вказаний конкретний тип підвіски. Вимога до наявності саме такого типу підвіски обґрунтована у відповіді на Ваше запитання №1.
Дата відповіді: 21.08.2018 15:01